镀层相关故障 镀层不均匀 / 厚度偏差：高频线路对厚度一致性要求，故障表现为局部镀层偏厚或偏薄，直接导致阻抗波动超标。多因电流密度分布不均、镀液搅拌不充分，或光刻胶开窗精度偏差引发。 镀层附着力差 / 脱落：后续焊接或使用中镀层起皮、剥离，常见于罗杰斯等特殊基材。主要是前处理不彻底（残留油污、氧化层），或基材未做等离子体活化处理，导致镀层与基材结合力不足。 镀层粗糙 / 针孔：表面出现颗粒状凸起或微小孔洞，影响信号传输平滑性。成因包括镀液杂质过多、添加剂比例失衡，或电镀时氢气析出未及时排出。 镀层氧化 / 变色：尤其银镀层易出现发黄、发黑，降低导电性。多因后处理未及时做防氧化涂覆，或储存环境湿度、温度超标。
工艺适配相关故障 线路桥连 / 短路：超细线路（≤10μm 线宽）间出现镀层粘连，多因光刻胶显影不彻底、电镀时金属离子过度沉积，或镀液整平性差。 盲孔 / 埋孔填充不良：孔内出现空洞、凹陷，影响层间导通和散热。成因是镀液流动性不足、电流密度未针对深宽比优化，或添加剂中整平剂含量不足。 基材损伤：特殊基材（如 PTFE）出现翘曲、开裂，多因电镀温度过高（超过基材耐热极限），或前处理化学药剂腐蚀基材表面。
图形转移：定义线路与镀层区域 涂布高精度光刻胶 / 干膜，通过曝光、显影工艺，将线路图形转移到基材表面。 高频高速板对图形精度要求，需控制线宽 / 线距偏差≤±1μm，避免开窗偏移导致镀层错位。 显影后进行检查修正，去除残留胶渣，确保线路区域完全裸露、非线路区域被保护。
去胶与蚀刻：剥离多余金属 用化学脱胶剂或等离子体去除表面光刻胶 / 干膜，露出下方未被电镀覆盖的种子层。 采用微蚀工艺，蚀刻掉多余种子层，仅保留电镀形成的功能线路，控制侧蚀量≤0.5μm。 蚀刻后彻底水洗，避免残留药剂腐蚀镀层或基材。